熱噴涂的工藝方法有很多種，其中應(yīng)用較廣泛的方法有火焰噴涂、電弧噴涂、等離子噴涂（APS）、爆炸噴涂，近年來又發(fā)展了超音速噴涂（HVOF）技術(shù)。等離子體是一個(gè)廣義的概念。自然界除了固、液、氣3種物質(zhì)形態(tài)外,還存在物質(zhì)的第4態(tài)—等離子體。等離子噴涂技術(shù)中所敘述的等離子體是指氣體經(jīng)過壓縮電弧后形成的高溫等離子體,亦稱熱等離子體。

等離子噴涂的主要類型如下：

大氣等離子噴涂是用氬氣、氮?dú)?、氫氣作為離子氣,經(jīng)電離產(chǎn)生等離子高溫射流,將輸入的材料熔化或熔融噴射到工作表面形成涂層的方法。主要用于制備金屬陶瓷、金屬和陶瓷涂層。

可控氣氛等離子噴涂是將等離子噴槍置于密封艙室內(nèi),由機(jī)械手進(jìn)行操作。將艙室抽至真空狀態(tài)即為真空等離子噴涂（VPS），艙室為低壓狀態(tài)時(shí)稱為低壓真空等離子噴涂（LPPS），艙室的氣氛也可以為惰性氣氛或其它保護(hù)氣氛。這種工藝擴(kuò)大了熱噴涂在沉積金剛石膜、超導(dǎo)體氧化物涂層方面的應(yīng)用。

液穩(wěn)等離子噴涂方法噴槍采用水、乙醇、甲醇作為穩(wěn)定液體,相應(yīng)的產(chǎn)生氧化、中性或還原性的等離子體。由于這種噴涂方法的功率很大,所以特別適合噴涂高熔點(diǎn)的陶瓷材料。水穩(wěn)等離子技術(shù)現(xiàn)已投入大規(guī)模的產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn),在美國、日本、法國、德國、捷克和俄羅斯都得到了廣泛的應(yīng)用。

反應(yīng)等離子噴涂工藝是一種獨(dú)特的利用等離子體的化學(xué)過程制造復(fù)合材料、陶瓷、金屬間化合物等材料的涂層方法,如TiAl和MoSi2—SiC 等。這種方法的研究剛剛開始,不久將用于生產(chǎn)。

總而言之，等離子噴涂的涂層質(zhì)量不僅取決于噴涂設(shè)備和噴涂材料的質(zhì)量,更重要的是取決于所采用的噴涂工藝。合理選擇等離子噴涂工藝是確保涂層質(zhì)量的重要措施之一。

                                                                                             參考文獻(xiàn)：熱噴涂系列綜述之一:等離子噴涂（何洪泉，王峰，張?zhí)m）